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華力55nm CIS工藝開發項目榮獲科技進步一等獎

發布時間: 2017-04-10

 

 2017年1月,華力微電子55納米CMOS圖像傳感器(CIS)工藝開發項目榮獲浦東新區科技進步一等獎。

 華力55nm CIS工藝開發項目,邏輯工藝采用55納米低功耗技術,充分發揮了55納米工藝節點低電壓、低功耗的優勢,是國內CIS工藝采用的最先進的邏輯工藝。像素采用高透光率背照式成像技術(BSI),并結合了3D疊層結構的邏輯圖像處理與像素性能優化的芯片生產技術,像素邊長從1.4微米到業界目前最小的0.9微米,產品分辨率達到2300萬像素。

 在該項目中,華力自主開發的雙淺溝槽、雙通孔刻蝕、雙曝光光刻、超高能注入、低金屬污染控制等工藝技術,兼容邏輯與像素工藝,充分滿足了像素持續減小的技術需求與圖像質量持續改善的品質要求。華力CIS像素覆蓋面廣,像素尺寸從1.4微米至0.9微米,可覆蓋100萬-2300萬分辨率的攝像頭芯片產品,并且像素性能優異,0.9微米像素全勢阱能力保持在5000電子以上,暗電流小于10個電子,成為具有華力特色的CIS制造工藝技術。目前該工藝技術已申請了101項發明專利,已獲授權11項。

 自2013年6月第一顆CIS產品量產迄今,華力已有11顆差異化的攝像頭芯片產品實現量產,累計出貨超過6億顆芯片。這些產品主要用于智能手機前、后置攝像頭、安全監控、車用傳感器等,目前已被聯想、華為、酷派、VIVO等國內外知名手機廠商應用,市場占有率處于業界前列。

圖為獲獎證書

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